安全实用(yòng)真空高温烘箱

真空高温烘箱的必要性：
在半导體(tǐ)生产工艺中，光刻是集成電(diàn)路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤為(wèi)重要。光刻涂胶工艺中绝大多(duō)数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分(fēn)子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可(kě)以很(hěn)好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可(kě)反应生成以硅氧烷為(wèi)主體(tǐ)的化合物(wù)。它成功地将硅片表面由亲水变為(wèi)疏水，其疏水基可(kě)很(hěn)好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用(yòng)。

真空高温烘箱一般工作流程：
首先确定工作温度。典型的预处理(lǐ)程序為(wèi)：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分(fēn)受热，减少硅片表面的水分(fēn)。然后再次开始抽真空，充入HMDS气體(tǐ)，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分(fēn)与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理(lǐ)如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分(fēn)，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而*性表面变成非*性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。
尾气排放等：多(duō)余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用(yòng)废气收集管道。在无专用(yòng)废气收集管道时需做专门处理(lǐ)。

真空高温烘箱特点：
美观耐用(yòng)性：内采用(yòng)SUS不锈钢，外采用(yòng)A3钢板，喷塑处理(lǐ)；       
使用(yòng)安全性：加厚的保温层，良好的保温性能(néng)，隔热、节能(néng)效果显著；     
控制稳定性：智能(néng)微電(diàn)脑控制仪表，数字显示，控温精度高、准确；      
高性能(néng)：巧妙的风道设计，温度均匀度高；    
实用(yòng)性：强力门扣加特制的密封材质，确保箱内密封效果优良；     
可(kě)靠性：完善的安全保护装置，适合長(cháng)期连续运行。

真空高温烘箱箱體(tǐ)结构：
1)本设备由室體(tǐ)、真空系统、保护系统、電(diàn)气控制系统等组成
2)箱體(tǐ)采用(yòng)先进的机械设备制作、工艺先进、線(xiàn)条流畅，美观大方
3)内箱材质為(wèi)3mm厚优质不锈钢拉丝板经抛光处理(lǐ)，加强胫进行加固。外箱材质為(wèi)1.2mm厚优质冷轧钢板经表面特殊处理(lǐ)后静電(diàn)喷涂而成。
4)门与门框之间采用(yòng)高性能(néng)密封材料及独特的硅橡胶密封结构，密封、抗老化性好。
5)箱内设有(yǒu)不锈钢活动样品架，可(kě)拆卸易清洗。